氧化铝烧结炉主要用于半导体领域的氧化铝陶瓷胚体和制品的气氛烧结、真空烧结。

氮化铝烧结炉（立式）主要用于半导体领域的氮化铝等陶瓷胚体和制品的气氛烧结、真空烧结

氮化铝烧结炉（卧式）主要用于半导体领域的氮化铝陶瓷胚体和制品的气氛烧结、真空烧结。

碳化硅烧结炉（立式）主要用于半导体领域的碳化硅陶瓷制品的真空烧结、气氛烧结。