碳化硅化学气相沉积 (SiC-CVD) 技术
2025-08-22
碳化硅涂层并非我们日常生活中常见的简单涂层。它是通过高温化学反应,在基材表面生长出一层致密、纯净的碳化硅晶体薄膜。您可以将其理解为一种“晶体外延生长”过程,而非简单的物理覆盖。这层薄膜在微观上具有高度有序的晶体结构,其性能与块状碳化硅晶体一样卓越。它完美地继承了碳化硅材料的所有优良特性,为各种基底材料提供了革命性的表面性能提升。 一、碳化硅涂层的特征CVD工艺制备的碳化硅涂层具有一系列优异特性:1、极端耐高温:在高温环境下能保持极高的强度和稳定性,抗氧化能力极强,工作温度远高于大多数金属和合金。2、卓越的耐腐蚀性:对...