主要用于陶瓷制品的连续烧结，也可用于陶瓷粉体材料的连续制备。

高温粉体合成炉主要用于半导体领域的陶瓷粉体的合成。

氮化硅压力烧结炉（立式）主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气压烧结等。

氮化硅压力烧结炉（卧式）主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气压烧结等。